911chaxun查询科学技术名词电子元器件工艺与分析技术
电子学电子元器件工艺与分析技术
等离子[体]去胶 removing of photoresist by plasma 等离子[体]去胶的意思 removing of photoresist by plasma的意思
等离子[体]去胶
规范用词等离子[体]去胶
英文对照removing of photoresist by plasma
所属学科电子学 > 电子元器件工艺与分析技术
名词审定电子学名词审定委员会
见载刊物《电子学名词》 科学出版社
公布时间1993年
科学技术名词为您提供等离子[体]去胶,removing of photoresist by plasma,等离子[体]去胶的意思,removing of photoresist by plasma的意思,等离子[体]去胶的英文,removing of photoresist by plasma的翻译,等离子[体]去胶的翻译,等离子[体]去胶是什么意思,等离子[体]去胶什么意思,removing of photoresist by plasma是什么意思,removing of photoresist by plasma什么意思
等离子[体]去胶 相关科技名词
- 初缩first minification
- 精缩final minification
- 母版master mask
- 铬版chromium plate
- 干版dry plate
- 乳胶版emulsion plate
- 透明版see-through plate
- 高分辨率版high resolution plate;HRP
- 超微粒干版plate for ultra-microminiaturization
- 掩模mask
- 掩模对准mask alignment
- 对准精度alignment precision
- 光刻胶photoresist
- 负性光刻胶negative photoresist
- 正性光刻胶positive photoresist
- 无机光刻胶inorganic resist
- 多层光刻胶multilevel resist
- 电子束光刻胶electron beam resist
- X射线光刻胶X-ray resist
- 刷洗scrubbing
- 甩胶spinning
- 涂胶photoresist coating
- 后烘postbaking
- 光刻photolithography
- X射线光刻X-ray lithography
- 电子束光刻electron beam lithography
- 离子束光刻ion beam lithography
- 深紫外光刻deep-UV lithography
- 光刻机mask aligner
- 投影光刻机projection mask aligner
- 曝光exposure
- 接触式曝光法contact exposure method
- 接近式曝光法proximity exposure method
- 光学投影曝光法optical projection exposure method
- 电子束曝光系统electron beam exposure system
- 分步重复系统step-and-repeat system
- 显影development
- 线宽linewidth
- 去胶stripping of photoresist
- 氧化去胶removing of photoresist by oxidation
别人正在查