等离子体化学气相沉积
规范用词等离子体化学气相沉积
英文对照plasma chemical vapor deposition
名词定义将等离子体技术引入化学气相沉积，形成覆盖层的方法。
中文又称PCVD法(PCVD）
所属学科机械工程 > 机械制造工艺与设备 > 表面工程 > 气相沉积
名词审定机械工程名词审定委员会
见载刊物《机械工程名词（第二分册）》 科学出版社
公布时间2003年
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